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Intel repousse encore les frontières de la «loi de Moore»

Les technologies de gravure sur silicium bonnes pour trois nouvelles générations.

18 juin 2001, 0h00
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A l’occasion de la conférence sur la nanoélectronique de Kyoto la semaine dernière, les chercheurs d’Intel ont fait éclater une bombe en annonçant qu’ils avaient réussi à repousser une nouvelle fois les limites de la gravure sur silicium qui gouverne la fabrication de microprocesseurs toujours puissants. Ils ont démontré la possibilité de fabriquer des transistors primaires de vingt nanomètres (millionièmes de millimètre). «Nos recherches montrent que nous sommes capables de prolonger les princi...
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